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在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，食品净化工程公司，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。 到目前为止，在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，食品净化工程哪家好，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。 实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2A。此外，在高的相对湿度环境下，天津食品净化工程，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可 以受到较高的相对湿度的影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六二硅氮烷(HMDS)。

洁净室内墙壁和顶棚的装修应符合下列规定： 1.洁净室内墙壁和顶棚的表面应平整、光滑、不起尘、避免眩光，便于除尘，并应减凹凸面。 2.踢脚线不应突出墙面。 3.洁净室不宜采用砌筑墙抹灰墙面，当必须采用时宜采用干燥作业，食品净化工程施工，抹灰应采用符合现行***标准《建筑装饰装修工程质量验收规范》GB 50210中抹灰的要求。墙面抹灰后应刷涂料面层，并应选用难燃、不开裂、耐腐蚀、耐清洗、表面光滑、不易吸水变质发老霉的涂料。

湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件，相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。 近年，在这些规定范围中保持处理空气过程，天津净化工程为大家介绍一下相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括： 1、***生长; 2、工作人员感到室温舒适的范围; 3、出现静电荷; 4、金属腐蚀; 5、水汽冷凝; 6、光刻的退化; 7、吸水性。